磁控溅射“磁控反应”介绍
磁控反应溅射绝缘体看似容易,真空磁控溅射镀膜设备报价,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面以及靶源表面,从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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溅射镀膜
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体,在阴极(靶)1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面,使得靶原子溅出并沉积在基片上,形成薄膜。溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
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小型自动磁控溅射仪
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1. 溅射室极限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气:溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa;
4. 系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa
5.溅射真空室1套,真空磁控溅射镀膜设备,立式上开盖结构,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不锈钢结构,弧焊接,表面进行电化学抛光,内含防污内衬,可内烘烤到100~150℃,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封,腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套, 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台1套,样品台可放置不小于100mm样品1片,具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度:室温—500°C连续可调,由热电偶闭环反馈控制,加热电源配备控温表,控温方式为PID自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9.工作气路1套,包含:100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路;DN16充气阀、管路、接头等2路;
10. 抽气机组及阀门、管道1套,包含1台进口复合分子泵及变频控制电源(680L/s ,德国普发Hipace700分子泵);1台机械泵(4L/S),1台DN40气动截止阀,机械泵与真空室之间的旁抽管路1套,真空磁控溅射镀膜设备价格,CC150气动闸板阀1台(用于复合分子泵与真空室隔离),节流阀1台,DN40旁抽气阀1台,压差式充气阀1台;管道采用不锈钢三通及波纹管,
11. 安装机台架组件1套,由方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理,机台表面用不锈钢蒙皮装饰,四只脚轮,可固定,可移动。
真空磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程真空技术由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司是一家从事“电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“鹏程真空”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上,用户至上”的原则,使沈阳鹏程在成型设备中赢得了客户的信任,树立了良好的企业形象。特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!