区域提纯后的金属锗,银蒸发镀靶材技术,其锭底表面上的电阻率为30~50欧姆 厘米时,纯度相当于8~9,可以满足电子器件的要求。但对于杂质浓度小于[KG2]10原子/厘米[KG2]的探测器级超纯锗,则尚须经过特殊处理。
由于锗中有少数杂质如磷、铝、硅、硼的分配系数接近于1或大于1,要加强化学提纯方法除去这些杂质,然后再进行区熔提纯。电子级纯的区熔锗锭用霍尔效应测量杂质(载流子)浓度,一般可达10~10原子/厘米。经切头去尾,再利用多次拉晶和切割尾,一直达到所要求的纯度(10原子/厘米),这样纯度的锗(相当于13)所作的探测器,其分辨率已接近于理论数值。
在传统产业的应用领域中,银蒸发镀靶材工艺,对于贵金属的需求也随着这些产业的兴衰而出现此起彼落此消彼长,甚至出现行业的淘汰而与贵金属无缘,例如照相用胶卷。科技的进步和发展,使传统产业发生剧烈的变迁,也使贵金属的供求状况出现急剧的变化,银蒸发镀靶材,这种变化也是导致了贵金属的价格出现剧烈波动的因素之一。然而在传统产业不断的创新和转型中,贵金属依然成为选择的关键性材料,用更先进和更科学的工艺和手段,银蒸发镀靶材加工,把贵金属的独特性能发挥得更淋漓尽致。
溅射技术:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
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