溅射镀膜的特点
溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。
溅射镀膜与真空镀膜相比，有如下特点:
1.任何物质都可以溅射， 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;
2.溅射薄膜与衬底的附着性好;
3.溅射镀膜的密度高，磁控溅射仪公司，孔少，膜层纯度高;
4.膜层厚度可控性和重复性好。
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小型自动磁控溅射仪
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1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
5.溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，磁控溅射仪，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9.工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路；DN16充气阀、管路、接头等2路；
10. 抽气机组及阀门、管道1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s ，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S），1台DN40气动截止阀，磁控溅射仪价格，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，
11. 安装机台架组件1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。
卧式磁控溅射镀膜机
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主要用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
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