磁控溅射的种类很多，按所用电源分，可以分为直流磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射。
直流磁控溅射所用的电源是直流高压电源，通常在300～1000V，特点是溅射速率快，造价低，后期维修保养便宜。
射频磁控溅射所用的射频电源的频率通常是13.56MHz，可以解决直流磁控溅射不能溅射绝缘靶材的问题。
中频磁控溅射常用于反应溅射，来制备金属化合物薄膜，在腔体中除了氩气外，加入少量反应气体。
真空是一种不存在任何物质的空间状态，是一种物理现象。在“真空”中，声音因为没有介质而无法传递，但电磁波的传递却不受真空的影响。
事实上，在真空技术里，真空系针对大气而言，一特定空间内部之部份物质被排出，使其压强小于一个标准大气压，沈阳真空设备，则我们通称此空间为真空或真空状态。
真空常用帕斯卡（Pascal）或托尔（Torr）做为压力的单位。目前在自然环境里，沈阳真空设备厂家，只有外太空堪称Zui接近真空的空间。
真空应理解为气体较稀薄的空间，具体地讲：在空间内，低于一个大气压力的气体状态统称为真空。
真空状态下，气体稀薄程度称为真空度，通常用压力值来表示真空度的高低。
测量低于大气压的气体压强的工具称为真空计。真空计可以直接测量气体的压强，也可以通过与压强有关的物理量来间接测量压强，前者称为真空计，沈阳真空设备价格，后者称为相对真空计。
气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在Zui近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。
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