双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些?
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产品特点
1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜
2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。
卧式磁控溅射镀膜机磁控溅射镀膜机
卧式磁控溅射镀膜机
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主要用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
【磁控溅射镀膜设备】使用注意事项
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磁控溅射镀膜设备是目前一种镀膜产品,磁控溅射镀膜机,相比传统的水电镀来讲,磁控溅射镀膜设备无毒性,能够掩盖,双靶磁控溅射镀膜机,弥补多种水电镀的缺陷。
近年来磁控溅射镀膜设备技术得到了广泛的应用,现国内磁控溅射镀膜设备厂家大大小小的也非常多,但是专注于磁控溅射镀膜设备生产,
经验丰富的却造磁控溅射镀膜设备厂家,就一定会有一定的规模,D型磁控溅射镀膜机,这类磁控溅射镀膜设备不像是小件的东西,
磁控溅射镀膜设备其技术含量非常的高,选购磁控溅射镀膜设备时一定要先了解。
磁控溅射镀膜设备技术含量高,那么就一定要拥有一个非常强大的磁控溅射镀膜设备技术工程队伍,
磁控溅射镀膜设备行业的专家,磁控溅射镀膜设备可根据用户的产品工艺及物殊要求设计配置。
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