钙钛矿镀膜设备
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！
设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室：方形前后开门结构，350型四源有机无机热蒸发镀膜机销售，内带有防污板。
2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套
4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，有机无机热蒸发镀膜机销售，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。
6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?
ZF450型全自动热蒸发镀膜机
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业电阻器热蒸发镀膜供货商，我们为您提供下列信息内容。
选用3～8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于高等院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取高品质作用塑料薄膜、蒸镀电级等，非常合适OPV/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学EL、OLED显示信息科学研究与开发设计行业。
1.前开关门真空内腔，便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养；
2.1200L/s分子泵做为主抽泵，真空限达到5×10-5Pa；
另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵，真空限达到3×10-6Pa；
3.组水冷器蒸发电级，可长期平稳工作中，适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案，
源间有避免交叉式环境污染挡板；
4.真空蒸发开关电源，恒流电源/恒输出功率操纵。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用；
5.较大120mm基片/15～25mmITO/FTO夹层玻璃25片，可订制一体化高精密刻蚀掩膜板；
6.基片台自转，转速比0～25rpm持续可调式；
7. 衬底可挑选加温或水冷散热，源基距较大350mm；
8. 选用進口膜厚监控器仪在线监控和操纵蒸发速度、膜厚；
9. 可堆积金属材料（Au， Ag，350型四源有机无机热蒸发镀膜机销售，Al， Ca， Cu， Mg， Fe， Cr， Ni等）、非金属材料、化学物质（MoO3， LiF等）
及有机化合物材料， 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜；
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小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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